正片與負片:四層板,首先要搞明白的是正片和負片,就是layer和plane的區別。正片就是平常用在項層和地層的的走線方法,既走線的地方是銅線,用Polygon Pour 進行大塊敷銅填充。負片正好相反,既默認敷銅,走線的地方是分割線,也就是生成-一個負片之后整- -層就已經被敷銅了,要做的事情就是分割敷銅,再設置分割后的敷銅的網絡。在PROTEL之前的版本,是用Split來分割,而現在用的版本Altium Designer 中直接用Line,快捷鍵PL,來分割,分割線不宜太細,我用30mil (約0.762mm)。要分割敷銅時,只要用LINE畫一個封閉的多邊形框,在雙擊框內敷銅設置網絡。正負片都可以用于內電層,正片通過走線和敷銅也可以實現。負片的好處在于默認大塊敷銅填充,在添加過孔,改變敷銅大小等等操作都不需要重新Rebuild,這樣省去了重新敷銅計算的時間。中間層用于電源層和地層時候,層面上大多是大塊敷銅,這樣用負片的優勢就較明顯。
采用盲孔和埋孔的優點:在非穿導孔技術中,盲孔和埋孔的應用,可以極大地降低PCB的尺寸和質量,減少層數,提高電磁兼容性,增加電子產品特色,降低成本,同時也會使得設計工作更加簡便快捷。在傳統PCB設計和加工中,通孔會帶來許多問題。首先它們占居大量的有效空間,其次大量的通孔密集- -處也對多層PCB內層走線造成巨大障礙,這些通孔占去走線所需的空間,它們密集地穿過電源與地線層的表面,還會破壞電源地線層的阻抗特性,使電源地線層失效。且常規的機械法鉆孔將是采用非穿導孔技術工作量的20倍。在PCB設計中,雖然焊盤、過孔的尺寸已逐漸減小,但如果板層厚度不按比例下降,將會導致通孔的縱橫比增大,通孔的縱橫比增大會降低可靠性。隨著先進的激光打孔技術、等離子干腐蝕技術的成熟,應用非貫穿的小盲孔和小埋孔成為可能,若這些非穿導孔的孔直徑為0.3mm,所帶來的寄生參數是原先常規孔的1/10 左右,提高了PCB的可靠性。由于采用非穿導孔技術,使得PCB上大的過孔會很少,因而可以為走線提供更多的空間。剩余空間可以用作大面積屏蔽用途,以改進EMIRFI性能。同時更多的剩余空間還可以用于內層對器件和關鍵網線進行部分屏蔽,使其具有佳電氣性能。采用非穿導孔,可以更方便地進行器件引腳扇出,使得高密度引腳器件(如BGA 封裝器件) 很容易布線,縮短連線長度,滿足高速電路時序要求。
采用盲孔和埋孔的缺點:主要的缺點就是板子成本高,加工制做復雜。既增加成本還有加工風險,調試時會更不好測試測量,因此建議盡量不用盲孔和埋孔,除非在板子尺寸受限,迫不得己的情況下才用。